Lèvre H

La lèvre H (ressort hélicoïdal/à rayon) comporte un ressort hélicoïdal à charge élevée pour une meilleure stabilité. Convient aux applications d'étanchéité des liquides et gaz cryogéniques. La lèvre à rayon réduit les risques d'endommagement de la lèvre d'étanchéité durant l'installation. Ne pas utiliser pour l'étanchéité dynamique des agents abrasifs. Risque de suintement dans les applications à mouvement alternatif à haute vitesse en raison de l'aquaplanage de la lèvre d'étanchéité.

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