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Neue elektrisch angetriebene Dosierpumpe von SKF: Lincoln EDL1

Hervorragend geeignet für Anwendungen mit großen Entfernungen zwischen Versorgungs- pumpe und Schmier- stellen: die neue elektrisch angetriebene Dosierpumpe Lincoln EDL1 von SKF.

Typische Installation des Lincoln EDL1 in einem Schrank.

Typisches Layout eines sektionalen Schmiersystems mit Versorgungspumpe, EDL1 und Progressiv-Schmierstoffverteilern.

2016 Januar 12, 08:00 CET

Göteborg / Schweinfurt, den 12. Januar 2016

 

SKF führt eine neue elektrisch angetriebene Dosierpumpe in den Markt ein: den Lincoln EDL1. In Verbindung mit Progressivverteilern eignet sich die Pumpe zur Versorgung von sektionalen Schmiersys- temen an ausgedehnten Maschinen bzw. Prozesslinien mit verschiedenen Schmierungsanforderungen oder unterschiedlichen Entfernungen vom zentralen Schmieraggregat.

 

Der EDL1 von Lincoln ist eine innovative Dosier- und Druckverstärker-Pumpe von herausragender Einfachheit, die den ankommenden Druck von mindestens 2 bar auf bis zu 280 bar erhöht. Der EDL1 ist eine wirtschaftliche Lösung und kann mit vorhandenen Leitungen, Anschlussmaterial und Versorgungspumpe verwendet werden.

 

Der Lincoln EDL1 arbeitet effektiv in anspruchsvollen Umgebungen, so auch im Freien bei schwankenden Temperaturen. Da der Schmierstoff von einer Versorgungspumpe oder einer druckbeaufschlagten Kartusche bezogen wird, kann das Gerät flexibel und autark auch an abgelegenen Standorten eingesetzt werden. Der EDL1 besitzt eine integrierte Steuer- platine für impuls- und zeitabhängige Schmierung und ist in der Lage, Schmierungsfehler zu erkennen.

 

Der EDL1 eignet sich für die Lebensmittel- und Getränkeindustrie oder auch Eisenbahnanwendungen sowie die Zement- und Schwerindustrie. Er kann in vielen industriellen Anwendungen, in denen ein wirtschaftliches Sektional-Schmiersystem benötigt wird, zum Einsatz kommen.

  

Aktiebolaget SKF

(publ)

Pressekontakt:


Dietmar Seidel, Leiter Technische Fachpresse Deutschland,

Tel. 09721-56 2843, E-Mail: dietmar.seidel@skf.com


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